第1142章 最精密的学问(2 / 6)

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  张红旗的手指,在图上轻轻点过。
  “光源。”
  “物镜系统。”
  “掩膜台。”
  “硅片台。”
  钱院士的呼吸,停了一下。
  他当然认得出来这是什么。
  这是光刻机的核心架构。
  但让他心惊的不是这个架构图本身。
  而是图上那些密密麻麻的手写的標註。
  全是英文和德文的缩写,夹杂著公式和参数。
  “光源:lpp-euv,功率要求大於250w,能量转换效率大於5%。”
  “物镜:13片非球面反射镜,材料,ule玻璃,表面粗糙度小於0.1纳米。”
  “掩膜台:磁悬浮,同步运动精度小於2纳米。”
  钱院士的眼睛,越瞪越大。
  这些参数,每一个,都像一颗子弹。
  精准地打在他几十年的科研认知上。
  国內现在连duv都还在理论摸索阶段。
  这张图,直接跳到了euv。
  而且,给出的指標,比他从国外老同学那里听到的最前沿的实验室数据,还要激进,还要精確。
  这根本不是一份方案。
  这是一份来自未来的施工图纸。
  钱院士的手,下意识地伸过去。
  想要抚摸那张图纸。
  手指,却在半空中停住了。
  有点抖。
  他的视线,落在了图纸的一个角落。
  那里画著一个反射镜组的截面图。
  旁边有一行小字。
  “mo/si多层膜反射镜,每层厚度3-4纳米,总层数大於80层。” ↑返回顶部↑

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