第1357章 准备好了?(2 / 5)

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  曝光均匀性:99.2%。
  报告厅安静了三秒。
  然后掌声炸了。
  范德贝尔站在台上,等掌声停了。
  “62瓦。各位,我们原定的目標是50瓦,今天的实测数据超出了百分之二十四。”
  台下记者开始举手。
  范德贝尔摆了摆手。
  “问题等会儿再说,先看完。”
  屏幕上切出第二组数据。
  解析度测试:45纳米线宽,清晰,没有畸变。
  第三组,套刻精度:3.2纳米。
  范德贝尔指著屏幕。
  “这意味著,euv光刻技术从实验室走向了工程验证阶段。我们距离量產只差最后一步。”
  掌声又起来了。
  发布会结束,记者围上去。
  范德贝尔回答了十二个问题。最后一个,金融时报的记者问。
  “首批量產设备的客户名单,能透露吗?”
  范德贝尔笑了一下。
  “首批设备將优先供应我们的长期合作伙伴——台积电,三星,英特尔。至於亚洲其他地区的客户,目前没有计划。”
  这句话当天晚上就上了所有科技媒体的头条。
  彭博的標题。
  “asml宣布euv光刻机突破关键里程碑:亚洲客户被排除在首批名单外”
  京城,后海。
  下午三点。
  张红旗坐在地下室。
  面前一台电脑,屏幕上放的是asml发布会的网络直播回放。
  他从头看到尾,看了两遍。
  第一遍看范德贝尔说了什么。
  第二遍看屏幕上那些数字。
  62瓦,13.5纳米,99.2%,45纳米,3.2纳米。 ↑返回顶部↑

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