第82章 双管齐下,继续推进硅电晶体研製工作!(2 / 5)

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  光刻胶这个概念。
  还是江阳提出来的。
  在此之前,他们都是以合金法和台面工艺製作电晶体,无需光刻胶。
  王寿吾頜首道:
  “汤教授,您请继续。”
  闻言,汤定远道:
  “江教授为我们介绍过光刻胶的作用。”
  “它直接决定。”
  “集成电路的最小特徵尺寸、良率和工艺复杂度—”
  他说完后。
  迟疑了片刻。
  接下来的话,等於是在反对江阳提出的方案。
  这时,江阳笑道:
  “汤教授,如果您有更好的方法,但说无妨。”
  汤定远点了点头,道:
  “那我就直说了。”
  “根据我的研究,使用天然沥青+溶剂,解析度极低。”
  “最后很大概率无法满足我们的研製需要—”
  沥青胶是负性光刻。
  紫外线引发交联反应,形成三维网格结构后。
  曝光区域变得难溶於溶剂,且会被溶剂渗透,引发溶胀。
  虽说面前也能实现光刻。
  但结果几乎是可以预见的不如人意。
  汤定远说完后,又道:
  “原本我也不觉得有问题。”
  “毕竟光刻对我们所有人来说,都是个新东西。”
  “但江教授的一句话,给了我启发。”
  “如果让曝光区域发生光解反应,效果会不会更好——”
  听完汤定远的想法后,眾人陷入沉思。
  江阳面色不变。 ↑返回顶部↑

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