第110章 近接式光刻机，微米级微调机构！（4 / 6）

  “其实刚刚林教授的想法很不错。”
  “我们现在的接触式光刻，缺少精密系统的辅助—.”
  他一边说。
  一边在身后的小黑板上写下几个关键点。
  一掩膜与基片直接接触、光源简陋、手工操作。
  总体上。
  是根据林嵐因的思路，先去分析简易光刻机的缺陷。
  待江阳说完后。
  林嵐因立刻道：
  “所以我们现在是要完成標准的接触式光刻吗？”
  她在m帝时。
  听说过接触式光刻的理论。
  但目前来说，还没有一个很好的应用。
  江阳道：
  “不完全是。”
  “接触式光刻其实存在个明显的缺陷。”
  “近距离的物理接触，会导致掩膜的损失，大大降低寿命。”
  他说完后。
  林嵐因、黄琨和王寿吾，陷入沉思。
  不採用接触式的话。
  就完全没有可以依照的理论，只能摸著石头过河。
  就在这时。
  江阳继续道：
  “所以我们需要保留掩膜与晶圆间微小的间隙。“
  “没有物理接触。”
  “自然能有效地提掩膜的使用寿命。”
  林嵐因道：
  “可是这样的话，恐怕需要更高的曝光时间。，“而且间隙控制。”
  “没有够精度的调整机构，恐怕难以做到。”
  江阳没有立刻回应。 ↑返回顶部↑