第352章 130纳米製程情况(1 / 3)

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  马宇腾他放下手中的水杯。
  目光从那些喜人的数据上移开,落在了肖光楠的脸上。
  “你之前的匯报文件中提到,湾湾的台积电,在最近已经通过採用浸没式光刻技术,成功实现了90纳米製程的量產突破?”
  “是的,我已经通过行业內的关係確认了这个消息的真实性。”
  这个消息,对於半导体行业之外的人来说,或许只是一行冰冷的技术新闻。
  但对於肖光楠这样的从业者而言,不啻於一声惊雷。
  这意味著,在先进位程的赛道上,领跑者又一次拉开了与追赶者的距离。
  马宇腾的声音再次响起,带著不容置疑的压迫感。
  “我们不能永远停留在成熟製程上,靠著关联公司的订单过日子,那最后只会变成价格战的红海。”
  “所以,我们的下一代製程研发,现在是怎样的情况?”
  肖光楠深吸一口气,调出了另一份ppt。
  这份ppt的標题是——“130纳米工艺製程研发进展”。
  “马总,您的顾虑,我们已经意识到了。在保证现有生產任务的同时,技术部已经成立了专项攻关小组,进行130纳米製程的开发。”
  肖光楠指著屏幕上的一张设备採购单。
  “我们从尼康採购了一台nsr-s307e arf扫描式光刻机,这是开发130纳米工艺的关键设备。”
  “之后,通过这台光刻机进行了新製程工艺的开发,只是良品率……”
  马宇腾的目光落在报告的最后一页,那里有一张醒目的良率统计图。
  那条代表著良率的曲线,在经歷了初期的几次小幅爬升后,就死死地停在了一个数字上,再也无法寸进。
  百分之三十。
  一个根本不具备任何商业量產价值的数字。
  马宇腾抬起头,看著肖光楠,眼神平静,却仿佛能穿透人心。
  “原因是什么?”
  肖光楠的嘴唇动了动,镜片后的双眼流露出一丝技术人员面对难题时的凝重与无奈。
  他走到白板前,调出了一张更为复杂的工艺流程图。
  “问题是系统性的。”
  他指著图上一个被红框標记出来的区域。
  “这是在进行柵极刻蚀的环节。我们的180纳米用的是成熟的干法刻蚀。”
  “但到了130纳米,线宽急剧缩小,等离子体对光刻胶的损伤变得非常严重,导致刻蚀后的柵极侧壁形貌控制不住,出现大量的『脚丫』缺陷。”
  他又切换到另一张电子显微镜下的扫描图片,图片上,本该是笔直的线条,底部却出现了不规则的凸起,如同人的脚丫。
  “我们尝试了调整刻蚀气体的配比,优化等离子体的功率,甚至更换了光刻胶的供应商,但效果都不理想。” ↑返回顶部↑

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