第425章 90纳米製程的突破(2 / 3)

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  马宇腾转头看肖光楠,眼神中带著考量。
  “现在技术路径已全部跑通?”
  “是的。”肖光楠肯定地回答。
  “浸没式光刻是当前半导体先进位程的唯一道路。台积电已用事实证明了这点。我们的技术团队,包括从东芯国际交流过的工程师,都认为这个方向正確无误。”
  马宇腾轻点一下头。
  他走到一台检测设备前,屏幕上显示著晶圆表面的微观结构图,密密麻麻的电路图案,如同精密的迷宫。
  “这些是初步测试结果。您能看到,90纳米的线宽已清晰可见。”
  肖光楠指向屏幕,“儘管有些区域仍存在缺陷,但大部分结构都符合设计要求。”
  马宇腾凝视屏幕,他明白,每个微小结构都凝聚著无数工程师的心血。
  “良品率提升,预计需要多久?”马宇腾问。
  “根据经验,至少还需要三到六个月。”肖光楠回答。
  “这需要大量实验,持续调整工艺参数,优化设备性能。尤其在刻蚀和清洗环节,对良率影响最大。”
  马宇腾没有立即回应,他在脑海中快速梳理著下一步的计划。
  三到六个月,这个时间不可或缺。
  他深知,技术突破初期,良品率是最大的拦路虎,也是最考验耐心的环节。
  “肖总,你们与东芯国际的合作,效果如何?”
  马宇腾问,他心知肚明当初派团队“偷师”的目的。
  肖光楠脸上浮现出由衷的敬佩。
  “非常成功。东芯国际在130纳米製程的量產经验,给了我们极大帮助。他们的工程师团队,在工艺整合和设备调试方面,確实有独到之处。”
  肖光楠说,“我们的工程师团队,也从中学到了很多。特別是对成熟製程的理解和把控,提升了一个台阶。”
  肖光楠稍作停顿,眼神变得更加坚定。
  “马总,我有个提议。”
  “既然我们与东芯国际的合作如此顺利,也尝到了合作的甜头。等我们90纳米製程良品率稳定后,可以继续深化合作,往65纳米製程方向推进。两家公司联合攻关,能大大缩短研发周期,降低研发成本。”
  马宇腾的嘴角微微上扬,这正是他乐见其成的局面。
  “你的想法,与我不谋而合。”
  “既然90纳米製程的技术路径已验证可行,那么下一步,確实应考虑65纳米。”
  他话锋一转,语气变得沉重起来。
  “但是,光刻机的问题,仍是摆在我们面前的一道坎。”
  肖光楠的脸上也泛起一丝忧虑。
  “是的,马总。这也是我们团队一直在思考的问题。” ↑返回顶部↑

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