第440章 KBBF晶体发明人(2 / 3)

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  “陈院士,我这次来,是想和您聊聊kbbf晶体。”
  陈闯天的眉毛扬了一下。“哦?你们公司对非线性光学晶体也有兴趣?”
  “不是对晶体本身有兴趣。”马宇腾摇了摇头,语气变得严肃。
  “我是想探討將kbbf晶体,作为高端光刻机核心光源系统的可能性。”
  光刻机?
  陈闯天明显愣住了。
  他扶了扶眼镜,身体微微前倾,眼神里的审视意味更浓了。
  “详细说说。”
  马宇腾组织了一下语言,將之前与魔都微电子贺天成的交流內容,原原本本地复述了一遍。
  他从当前主流duv光刻机使用的arf准分子雷射光源讲起,谈到其存在的稳定性和纯净度问题。
  接著,他引出了kbbf晶体的独特优势。
  “……根据魔都微电子那边的分析,利用kbbf晶体的六倍频技术,可以製造出177.3纳米的全固態深紫外雷射源。这种光源在稳定性、光束质量和维护成本上,理论上要远远优於现在主流的准分子雷射。”
  陈闯天的表情逐渐变得凝重。
  他確实从来没有考虑过这个应用方向。
  kbbf晶体的研究,最初的立项背景,是为了国家的某个重大专项,目標直指高能雷射领域。
  他们团队所有的精力,都放在如何提升晶体的能量转换效率和雷射功率上。
  至於光刻机,那是一个完全陌生的领域。
  “你的想法很大胆。”陈闯天沉声说道。
  “但是,把实验室里的原理,变成工业级的应用,中间隔著一道天堑。”
  “是的。”马宇腾点头,他知道真正的关键问题要来了。
  “贺总那边也提到了目前存在的两个核心难题。”
  “第一,这是一条全新的技术路线,与阿斯麦、尼康等国际巨头走的准分子雷射路线完全不同。这意味著我们需要从头开始,自主研发整套光源系统,没有任何经验可以借鑑。”
  “第二,也是最致命的,kbbf晶体本身存在技术缺陷。它的层状结构导致其极易开裂,目前实验室还无法生长出能够满足光刻机功率要求的大尺寸、高质量晶体,量產工艺更是一片空白。”
  马宇腾將贺天成当初的忧虑,一字不差地转述给了面前这位kbbf晶体的发明者。
  办公室里陷入了长久的沉默。
  陈闯天靠在沙发上,手指无意识地在膝盖上敲击著。
  马宇腾的话,像一把钥匙,为他打开了一扇他从未关注过的大门。
  光刻机,国之重器。
  这个领域的落后,是所有国內半导体从业者心中的一根刺。
  如果kbbf晶体真的能在这条赛道上另闢蹊径,那它的战略意义,將远超之前设想的任何应用。 ↑返回顶部↑

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