第138章 震惊的国际友人,是真的,都是真的!(2 / 3)

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  包装盒底部新增一行银色小字:
  “关键晶片国產38nm工艺,自主可控。”
  ……
  ……
  美国加州,圣克拉拉,techinsights总部。
  深夜十一点,拆解实验室灯火通明。
  詹姆斯·米勒——资深首席分析工程师,叼著半截冷掉的咖啡吸管,把nova青春版pro的主板扔到工作檯上,语气满是讥誚:“又一个『中国奇蹟』?”
  “上帝,我真是服了!”另外一个工程师瑞安无奈的开口道:“我们这么晚了,到底在干什么,省省吧。上回汉芯用砂纸磨摩托罗拉晶片,这次怕不是拿台积电废片重新打標。”
  他身旁,华裔工程师林哲,正调试电子束显微镜,闻言嗤笑一声:“我老家在苏州,从小听『国產突破』听到耳朵起茧。结果呢?连个像样的示波器都造不好。38nm?別逗了,他们能稳定做出130nm就烧高香了。”
  “就是!”
  瑞安插嘴,“asml ceo都说中国人连193nm光源都没有,光刻机?怕是ppt造的吧!”
  林哲沉默了一下。
  感觉有些不舒服。
  但是,想想也无可厚非。
  国內的大环境的確是这样的。
  米勒耸耸肩,戴上防静电手套:“行吧,按流程走一遍。反正客户付了加急费,咱们就当看个笑话。”
  他熟练地剥离封装,取出那颗標註“pmic-hd38”的电源管理晶片,放入聚焦离子束设备。
  “先切个横截面,看看是不是多重曝光拼的……”
  屏幕亮起,纳米级剖面图像缓缓生成。
  起初,米勒还漫不经心地敲著桌面。
  可三分钟后,他动作僵住了。
  “这……这不对……”他凑近屏幕,瞳孔骤缩。
  林哲察觉异样,走过来瞥了一眼,笑容瞬间凝固。
  屏幕上,多层铜互连结构清晰如画,介电层均匀致密,柵极侧墙轮廓锐利如刀锋——这绝非65nm或90nm工艺能偽造的细节。
  “液膜边缘效应……”
  林哲声音发颤,“这是浸没式光刻独有的特徵!水浸界面导致的折射畸变……只有真实曝光才会留下这种痕跡!”
  米勒猛地调出线宽测量工具。
  38.2nm。±1.1nm。
  “上帝啊……”他喃喃道,“这不是演示片……这是量產良品。良率至少90%以上,否则不可能装进市售手机!”
  瑞安也挤过来,脸色煞白:“可……可他们半年前连duv光刻机都没见过!怎么做到的?!” ↑返回顶部↑

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