第403章 让你热馒头,你跟锅盖分析受热变形?(1 / 3)

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  顾晴挠了挠头髮,乾笑了一声,赶紧打圆场。
  “懂了懂了。刚才就是嘴碎,话顺著嘴边禿嚕出来了。”
  顾昭昭把那份年报重新推回她眼皮底下。
  “你能懂,说明你比大部分人都聪明。好奇是人类的正常生理反应,但科研保密,从来不按血缘亲情来分配权限。”
  顾晴被噎得翻了个白眼。
  “你这话听著是真硬邦邦的,但我居然觉得该死的有道理!”
  顾昭昭重新捏起铅笔,一秒切回学霸辅导模式。
  “接著看你的参数表吧。这个没出公开范围,隨便讲。”
  顾晴那点小尷尬瞬间被这句话给扫空了,立马坐得溜直。
  “讲讲讲!今天高低得把你脑子里的墨水多榨点出来。”
  顾昭昭在白纸上刷刷列出蒸镀功率、沉积速率、基板温度三列数据,又补了个膜厚均匀性。
  “你这组数据最大的坑,就是把功率和生长速率当成简单的线性关係来算了。”
  顾晴眉头拧成了一个疙瘩。
  “不是功率给得越大,长得就越快吗?”
  “在低功率区你可以这么凑合算,但越过一定閾值后,基板表面的迁移过程就成了拖后腿的限制因素。这时候你功率还不管不顾地往上猛加,速率不但不会按比例涨,反而会让表面粗糙度直接飆升。”
  顾昭昭拿过木尺压住纸边,行云流水般画出一条精准的对数擬合曲线。
  “看这儿。八十瓦到一百二十瓦之间,长势確实喜人。但一过一百二十瓦,曲线就开始平了。到了一百五十瓦附近,膜层质量已经明显往下掉了。你们现在光顾著追求出膜快,把工艺窗口全推过头了。”
  顾晴盯著那条堪称完美的曲线,嘴巴慢慢张成了“o”型。
  “所以,最佳功率压根就不是最大功率,而是在一百一到一百二之间?”
  “对。再配上一百八十五到一百九十五度的基板温度,真空度稳住,膜厚均匀性绝对能有个质的飞跃。”
  顾昭昭在旁边利索地写下两行字。
  【推荐工艺窗口:p=110—120w,t=185—195c,需强制加入温控反馈。】
  顾晴盯著那张纸,眼珠子都不捨得错一下。
  “乖乖……我开学要是把这张纸拍到梁院长桌上,他能激动得当场把实验室那台破温控仪给砸了重焊!”
  “別说是我定的。”顾昭昭严谨地提醒她,“你就说是根据现有的残缺数据,做出的擬合推断。以梁院长的水平,他看得懂这里的逻辑。”
  顾晴立马像供著宝贝似的把纸叠好,小心翼翼地夹进笔记本最中间。
  “懂,绝对不给你惹麻烦!不过我要是大言不惭地吹牛说这是我想出来的,估计梁院长也不信啊。”
  顾昭昭顺手翻开了她的实验笔记。
  “我再看看別的。”
  顾晴立马坐不住了,连连摆手求饶。 ↑返回顶部↑

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