第830章 晶片进展2(3 / 3)

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  负责人的表情瞬间变得更加严峻,他甚至下意识地深吸了一口气,才操作电脑。
  投影画面切换到一个更加复杂、数据点更加稀疏且波动剧烈的图表:n+1工艺良率追踪图。
  那如同癲癇患者心跳般的曲线,让所有懂行的人心里都是一沉。
  “姚总、冯总,n+1工艺,我们面临的是一堵技术界的『嘆息之壁』。”他的声音乾涩。
  “它的目標是实现比14nm更高的电晶体密度和能效比,这要求我们在电晶体架构、新材料、新集成技术上都取得突破。
  目前,我们在三个核心领域遇到了巨大的、近乎原理性的困难。”
  他逐一指出图表上的几个致命低谷: ↑返回顶部↑

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