第1364章 膜厚控制(1 / 4)

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  八月三號,鹏城,实验楼三层。
  钱院士带了十二个人,关在机房里,三天没出来。
  手册拆开之后,问题比想像的多。蔡司的镀膜工艺用的是磁控溅射加离子束辅助沉积,两套系统配合,精度要求到了亚纳米级別。
  钱院士的助手小周拿著列印出来的参数表,站在设备前,对了半天。
  “钱老,咱们这台溅射设备,靶材转速最高到三千转,手册上要求四千五。”
  钱院士走过来,看了一眼参数。
  “膜厚控制呢?”
  小周翻到第三页:“手册要求单层膜厚度误差不超过零点零二纳米。咱们这台设备最好做到零点零八,差四倍。”
  钱院士把参数表放下,摘了老花镜。
  设备不够——这是硬伤。
  他打给张红旗。
  “红旗,设备精度不够。手册里的工艺,咱们现有的机器跑不了。”
  张红旗在煤市街:“差多少?”
  “核心指標差三到四倍。要么换设备,要么改设备。换设备国內买不到,国外买走审批,最快半年。”
  张红旗说:“改。”
  “改设备风险很大,改坏了连现在的精度都保不住。”
  张红旗说:“钱老,您先稳住。材料那边我来解决。设备改造的方案您先出,我这边配合。”
  掛了。
  八月四號,东京,住友化学株式会社。
  住友的半导体材料部门收到了一份內部通报:asml和一家开曼信託公司达成了专利交叉授权协议,镀膜技术参数外流。
  住友的材料部部长田中看完通报,叫来下属。
  “查一下,之前跟我们採购高纯度鉬靶材的那个中国团队,是不是鹏城那边的?”
  下属查了记录:“是。去年十一月下过一批订单,后来因为出口管制审批卡住了,一直没发货。”
  田中点头:“现在asml把技术给出去了,说明这个团队有背景。重新联繫他们。”
  下属问:“价格呢?”
  田中说:“涨百分之五十。”
  下属没多问,发了邮件。
  八月五號,鹏城,钱院士收到住友的邮件。
  他看了报价,眉头皱了一下,打给张红旗。
  “材料供应商主动联繫过来了——日本住友。高纯度鉬靶材,去年卡住的那批货,现在愿意卖了,但是涨价百分之五十。” ↑返回顶部↑

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