第1364章 膜厚控制(2 / 4)

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  张红旗问:“原价多少?”
  “一批三百二十万美元,现在要四百八十万。”
  张红旗没犹豫:“买。二十四小时內发货,到不了货换供应商。”
  钱院士说:“国內没有替代供应商,这个纯度只有住友和德国贺利氏能做。”
  张红旗说:“那就让他们发。钱的事我来办。”
  掛了电话,张红旗打给刘浩。
  刘浩在京城,刚从北影厂出来。
  “浩子,走个帐。四百八十万美元,从香港帐户出,打到住友化学的指定帐户,今天之內到。”
  刘浩问:“什么钱?”
  “材料费,不多问。”
  刘浩说:“行,我让陈默那边办。”
  当天下午,陈默在香港操作。钱从瑞士帐户转到香港,再从香港打到东京。四个小时,到帐。
  住友收到款,田中签了发货单。鉬靶材从横滨港装船,走海运,三天到鹏城。
  八月八號,材料到了。
  钱院士没急著装料。他带著团队蹲在溅射设备前,干了一件事。
  改机器。
  小周把设备的控制电路板拆出来。钱院士拿著手册上的参数,在白板上画了一个补偿模型。
  “设备精度不够,用软体补。”
  他让三个博士生把实验楼地下室的模擬集群调出来——四十台伺服器,全部接上——跑了一个补偿算法。
  思路很简单:设备硬体做不到零点零二纳米的精度,就在每一层镀膜的过程中用传感器实时採集数据,反馈到算法里,算法即时修正下一步的沉积参数。
  等於让一个手抖的人,靠一套自动修正系统,画出一条直线。
  八月九號,凌晨两点,补偿参数跑出来了。
  小周把参数灌进设备控制系统,重启。
  溅射设备嗡嗡响了起来。
  钱院士站在无尘室的观察窗外,看著里面。
  第一层鉬膜,沉积开始。
  传感器採集,数据回传,算法修正。第二层硅膜,沉积,採集,修正。
  一层鉬,一层硅,交替沉积。
  euv反射镜面需要四十对鉬硅多层膜——八十层,每层厚度不到七纳米。
  八月十號,下午三点,八十层镀完。 ↑返回顶部↑

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