第1364章 膜厚控制(3 / 4)

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  小周从无尘室里出来,手里端著一块圆形基片,直径十五厘米,表面泛著金属光泽。
  钱院士接过来,放在检测台上。
  椭偏仪启动,雷射打在镜面上,反射,探测器接收。
  数据出来了。
  小周看著屏幕,念数:“单层膜厚度误差,零点零三五纳米。”
  钱院士没说话。
  手册要求零点零二,他们做到了零点零三五。没达標,但比原来的零点零八好了一倍多。
  “反射率呢?”
  小周切换到下一组数据:“十三点五纳米波长,反射率百分之六十二点三。”
  钱院士看著这个数字。
  手册上蔡司的指標是百分之六十七,差了不到五个点。
  但是,euv光刻机的最低工作门槛是百分之六十。
  他们过线了。
  钱院士走到角落,拿起电话。
  “红旗,光打通了。”
  张红旗在煤市街的院子里,正看著陈默送来的一份报告。
  “什么意思?”
  钱院士声音平稳:“极紫外光源,十三点五纳米,穿过反射镜面,形成了稳定光束。参数达到了euv光刻的最低发光標准。”
  张红旗把手里的报告放下。
  “钱老,您確认?”
  “仪器记录的,白纸黑字。反射率百分之六十二点三,过了百分之六十的门槛。”
  张红旗站了起来,走到院子里。槐树叶子在夜风里晃。
  “这是第一步。”
  钱院士说:“是第一步。后面还有光源系统、物镜组、工件台、掩模版,每一项都是硬骨头。但镜面这关,算是过了。”
  张红旗说:“钱老,辛苦了。数据锁好,不要外传。”
  “放心。”
  掛了电话。
  张红旗回到书房。桌上摊著麦佳佳从洛杉磯发来的一份行业报告。
  他坐下来,翻到第十四页。
  全球宽带网络用户增长曲线。 ↑返回顶部↑

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