第82章 双管齐下,继续推进硅电晶体研製工作!(1 / 5)

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  第82章 双管齐下,继续推进硅电晶体研製工作!
  次日,早。
  江阳刚刚来到半导体实验室。
  京机厂那边。
  就送来了j5060通过最终测试的消息。
  至此。
  他们终於拥有了,能够完成製备,且满足光刻要求硅片的设备。
  会议室內。
  王寿吾正在对这段时间的研究成果,进行总结。
  除开j5060外。
  採用氧化铝研磨膏+铸铁拋光碟,以及化学腐蚀的方式。
  完成了化学机械拋光。
  並利用两台显微镜加一个紫外曝光灯,搭建了“土光刻机”。
  虽说只能勉强实现10微米的线宽。
  但也能满足最低图形解析度的需求。
  当然。
  也不是所有的研究都一帆风顺。
  王寿吾道:
  “光刻和扩散,是我们现在面临的两大难题。”
  “手工光刻误差太大。”
  “而开关扩散的掺杂,不仅存在波动,同一电晶体上的閾值电压差异——””
  他说完后。
  眾人陷入沉思。
  江阳也没有著急开口,而是等待眾人討论。
  毕竟他不能什么都解决。
  没过多久。
  很快便有人开口,道:
  “我认为,可以尝试从光刻胶上取得突破。”
  听到他的话。
  所有人都下意识地看向江阳。 ↑返回顶部↑

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