第86章 硅电晶体实验成功！（4 / 5）

  接下来。
  半导体研究室，就是不断地重复实验。
  在三天后。
  吸取数次失败的经验教训，眾人终於做出成果。
  实验室內。
  王寿吾眼角带笑，正想跟宣布这个好消息。
  忽然看到坐在边上喝茶的江阳。
  他走上前，道：
  “江教授，要不您来说罢。”
  说著。
  王寿吾將手中的实验结果报告，递了出去。
  虽说江阳一直是技术总顾问的身份参与研究。
  但在他的心中。
  就是硅电晶体研究的技术负责人。
  江阳看著报告，道：
  “其实还是有很多不足的。”
  “在实验过程中。”
  “出现了光刻图形失真、扩散结深失控和金属电极失效等问题—.—”
  隨著江阳的分析。
  实验室內的眾人，当即收拢喜色，开始认真记录。
  即便是年纪四五十岁的老教授，都拿著纸笔记个不停。
  偶尔还不举手示意提问，丝毫不在意江阳的年纪比他们小。
  这时。
  江阳在小黑板上写下一道公式，道：
  “为了规避温度波动导致寄去过扩散，β值过低的情况。”
  “我们可以考虑採用沉积+推进两步扩散法。”
  “根据结深公式：j=d(t)·t，多次实验后校准扩散係数。”
  他说完后。
  过了许久。
  眾人才抬起头。 ↑返回顶部↑