第136章 近接式光刻机成功，集成电路突破！（4 / 6）

  好像已经有一百多年，没有出现。
  他们是落后的。
  所以挨了很多的打，了很长的时间，付出了很多的牺牲。
  正是因为这血的教训。
  他们才要研究、要追赶、要反超！
  想到这里。
  实验室內的所有人，眼眶都有些微微泛红。
  他们，做到了。
  王寿吾看向江阳，郑重道：“江教授，我们马上开始集成电路的突破吧！”
  “有了它！”
  “我相信我们这次一定能够突破100集成度！”
  他说完后。
  其他研究人员，也是纷纷点头。
  光刻机只是开始。
  集成电路，才是他们最终的目的。
  江阳本来想让眾人先庆祝。
  但看到他们的表情。
  当即頷首道：“好，那么我们开始吧！”
  实验继续。
  集成电路所需的材料，早已备齐。
  將硅片加工完后。
  进入光刻工艺环节，涂胶、曝光、显影和刻蚀。
  然后是掺杂。
  金属化、测试、封装————
  每道工序。
  都至少需要3—5天的时间打底。
  但没有人喊苦喊累。
  整个研究团队，一天24h，20个小时都在实验室。
  王寿吾、林嵐因和黄坤等主要负责人。
  更是完全顾不上休息。 ↑返回顶部↑