第136章 近接式光刻机成功，集成电路突破！（3 / 6）
王寿吾狠狠地挥了挥拳头。
一旁的王大严。
则是朝著江阳竖起一个大拇指，道：“不愧是江教授啊！”
他说完后。
王寿吾等人也反应过来，纷纷开口道：“没错，多亏江教授，才能研製出近接式光刻机！”
“有了它，老大哥和m帝，恐怕都要被我们狠狠甩在身后！”
“不是恐怕，是一定，他们的光刻机，恐怕连我们先前的都比不上！”
每个人的眼中。
都满是兴奋。
但江阳反倒很平静，问道：“测试的数据怎么样？”
王志坚道：“光强波动≤±5%、清晰成像2μm线宽————”
他不断地。
念出各项数据。
每说出一个，大家脸上的笑容，都更深一分。
江阳听完后，道：“雷射干涉仪刚成功，工作檯运动精度，还有提高空间。
“使用的光刻胶。”
“目前也只是勉强满足需求，显影后测量残留胶————”
他说著说著。
忽然感觉周围非常安静。
抬头看去。
只见每个人，都拿出纸笔，开始记录。
见状。
江阳怔了怔，转而道：“但这些都可以慢慢去突破。”
“我们现在。”
“在世界半导体领域，应该处於领先地位了。”
听到最后的这句话。
所有人手中的笔，都停了下来。
他们望向实验室操作台上的近接式光刻机，目光恍惚。
——领先。
这个词在华国。 ↑返回顶部↑
一旁的王大严。
则是朝著江阳竖起一个大拇指，道：“不愧是江教授啊！”
他说完后。
王寿吾等人也反应过来，纷纷开口道：“没错，多亏江教授，才能研製出近接式光刻机！”
“有了它，老大哥和m帝，恐怕都要被我们狠狠甩在身后！”
“不是恐怕，是一定，他们的光刻机，恐怕连我们先前的都比不上！”
每个人的眼中。
都满是兴奋。
但江阳反倒很平静，问道：“测试的数据怎么样？”
王志坚道：“光强波动≤±5%、清晰成像2μm线宽————”
他不断地。
念出各项数据。
每说出一个，大家脸上的笑容，都更深一分。
江阳听完后，道：“雷射干涉仪刚成功，工作檯运动精度，还有提高空间。
“使用的光刻胶。”
“目前也只是勉强满足需求，显影后测量残留胶————”
他说著说著。
忽然感觉周围非常安静。
抬头看去。
只见每个人，都拿出纸笔，开始记录。
见状。
江阳怔了怔，转而道：“但这些都可以慢慢去突破。”
“我们现在。”
“在世界半导体领域，应该处於领先地位了。”
听到最后的这句话。
所有人手中的笔，都停了下来。
他们望向实验室操作台上的近接式光刻机，目光恍惚。
——领先。
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