第425章 90纳米製程的突破(1 / 3)

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  这天,马宇腾的轿车驶入龙岗区雷霆晶片工厂,直抵办公楼前。
  此前,晶片公司总经理肖光楠在电话中告知,90纳米製程已取得突破,他特意赶来亲眼看看成果。
  轿车停稳,马宇腾推门下车。
  肖光楠早已等在门口,见他出现,立刻迎上前去,脸上带著难以掩饰的兴奋。
  “马总,欢迎您来雷霆晶片指导工作。”肖光楠说。
  “走吧,带我去看看你们的成果。”
  马宇腾言语简洁,目光直接投向生產区方向。
  前往生產区域的路上,肖光楠边走边匯报:
  “马总,上次向您报告90纳米製程试產有突破。这几周,我们持续调试和优化,现在已成功跑通整个工艺流程。儘管良品率还有提升空间,但技术路径已得到充分验证。”
  他语气中透著一股自豪,这是团队夜以继日攻关的结晶。
  两人抵达洁净室入口,按规定换上无尘服,戴好口罩与手套。
  经过风淋室的严格净化,才得以进入生產腹地。
  洁净室內,巨大的设备阵列排布,机械臂在各自轨道上精確运行,发出轻微的机械声。
  空气中,一种微弱而奇特的气味,那是高科技与精密製造混合出的专属气息。
  肖光楠引领在前,指著一台核心设备介绍:
  “马总,这就是我们90纳米製程的实验线。目前,所有关键设备均已就位,並完成了初步集成与校准。”
  马宇腾的目光落在那台庞大的机器上,它被严密的防护罩包裹,占据了洁净室的核心位置。
  “这是浸没式光刻机?”马宇腾的声音透过口罩,略显低沉。
  他想起数月前,与张如晶商谈时的情景。
  “是的。”肖光楠回应。
  “它採用193纳米波长的深紫外线光源,通过在镜头与晶圆间填充纯水,有效提升了数值孔径,从而实现更小的曝光尺寸。”
  他指向机器侧面的显示屏,“您看,这是光刻机的工作状態参数。我们正在进行曝光测试。”
  显示屏上,数据流转,光束路径、曝光强度、晶圆定位精度,各项技术指標跃然眼前。
  “这台机器的精度,远超我们此前使用的乾式光刻机。”
  肖光楠继续说。
  “它的解析度能达到90纳米甚至更低。这是我们实现90纳米製程突破的关键。”
  马宇腾走到一台运行中的设备旁,一个机械臂正將一片晶圆送入设备內部。
  晶圆表面,在强光下泛著微光。
  “整个工艺流程,从晶圆清洗、涂胶、曝光、显影、刻蚀,再到离子注入和金属化,我们都进行了大量的优化和验证。”
  肖光楠说,“当前,良品率是最大挑战。实验阶段波动较大,但我们相信,隨著工艺的进一步成熟和参数的精细调整,很快就能达到稳定量產的要求。” ↑返回顶部↑

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